RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD化学气相沉积设备

描述

RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD化学气相沉积设备

产品说明

RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD 是一种高性能化学气相沉积设备。该设备采用最先进的技术，可以实现高效、均匀、可靠的沉积过程。该设备适用于半导体、光电子、纳米科技等领域的制造过程。

产品参数

• 型号：RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768
• 设备尺寸：2000mm x 1500mm x 1800mm
• 外壳材料：不锈钢
• 沉积温度范围：100°C – 1000°C
• 沉积速率范围：5nm/min – 100nm/min
• 额定功率：10kW
• 工作气体：SiH4, NH3, N2, H2, Ar, O2

产品规格

• 工作电源：380VAC，50/60Hz
• 控制方式：PLC自动控制
• 真空度：10^-7 torr
• 沉积室尺寸：φ300mm x H400mm
• 沉积室材料：石英玻璃
• 沉积器类型：单沉积室、单沉积枪

应用领域

RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD 适用于以下领域：

• 半导体器件：芯片、晶体管等
• 光电子器件：LED、激光器等
• 纳米科技：纳米材料的生产和研究

产品使用说明

使用前请仔细阅读产品说明书。在使用过程中，请遵循以下操作步骤：

1. 打开设备电源，并等待设备预热完成。
2. 配置工作气体，根据需要选择相应的工作气体。
3. 将待沉积物置于沉积室内。
4. 启动沉积程序，根据需要设置沉积时间和沉积速率。
5. 沉积完成后，关闭设备电源，取出沉积好的物品。

中文产品介绍

RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD 是一款高效、均匀、可靠的化学气相沉积设备。该设备适用于半导体、光电子、纳米科技等领域的制造过程。它采用最先进的技术，可以实现高效、均匀、可靠的沉积过程，为用户带来高品质的沉积体验。

技术说明

RKS RPS MKS AX-7670 0190-47768 AMAT HDP CVD 采用了最先进的化学气相沉积技术，实现了高效、均匀、可靠的沉积过程。该设备具有高真空度、高温度控制精度、高沉积速率等优势，可满足各种沉积需求。

常见问题解答

1. Q: 如何保养设备？ A: 定期清洁设备，保持设备干燥；定期更换设备零部件，保证设备正常运行。
2. Q: 设备是否可以定制？ A: 可以根据客户需求进行定制。
3. Q: 设备是否容易操作？ A: 设备操作简单，容易上手。

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